سارا ملکی
آبان ۲, ۱۴۰۴
[ad_1] نوشته و ویرایش شده توسط مجله ی سمسون شرکت صنایع نیمههادی تایوان TSMC تصمیم دارد برای فرآیندهای پیشرفته ۱.۴ نانومتری و ۱ نانومتری خود به جای منفعت گیری از دستگاههای زیاد گرانقیمت لیتوگرافی فرابنفشHigh-NA EUV ، از پِلیکلهای فوتومسک (photomask pellicles) منفعت گیری کند. این تصمیم نشاندهنده یک تحول راهبرد فنی مهم در روبه […]