سارا ملکی
آبان ۲, ۱۴۰۴
شرکت صنایع نیمههابدی تایوان TSMC تصمیم دارد برای فرآیندهای پیشرفته ۱.۴ نانومتری و ۱ نانومتری خود، به جای استفاده از دستگاههای گرانهقیمت لیتوگرافی فرابنفش High-NA EUV، از پلیکلهای فوتومسک (photomask pellicles) بهرهبرداری کند. این تصمیم نشاندهنده یک تحول راهبرد فنی مهم در مواجهه با هزینههای سرسامآور تجهیزات نسل تازه است. به نقل از قسمت صنایع […]